抛光粉有哪些种类

　　常用的抛光粉来自混合稀土，辅以氟化物、石英、钙、钡、铁和少量其他杂质。20世纪60年代至70年代,抛光粉的制备工艺和生产方法取得了相对集中的研究成果。常用的制备工艺是使稀土富集物在固态下发生化学变化,从而转化为机械化学性能稳定的化合物。稀土氧化物含量为40~70% (含30~65%的氧化物) , 粒度为1~4微米。该抛光粉价格相对便宜，切割率高，应用很广。主要用于阴极射线管、平板玻璃和镜片的抛光。 第二类氧化物基抛光粉采用化学沉淀法生产。

　　稀土沉淀煅烧成稳定的氧化物,磨成细粉。通常含有70~100%的稀:土氧化物(含40~100%的氧化物)。该产品的优点是成分均匀，颗粒尺寸和形状一致性好,但主要用于光学玻璃。特殊玻璃的抛光采用高水平抛光粉(99%以上的氧化物)。其颗粒形状和硬度均匀，纯度高，表面均匀，无缺陷，无杂质污染。常用于精密光学仪器、激光晶体和半导体元件的抛光。稀土抛光粉的要求不同于类似的稀士产品。就抛光粉而言，虽然对化学纯度也有要求 ,但它不是决定性因素，而是决定性因素。

　　因此，稀土抛光粉的制备须在一定化学含量的基础上赋予其应有的物理特性，如粒径、均均性、晶体性质、硬度、比例等。这些特性须在制备过程中(包括沉淀和煅烧)进行调整。首先，产生抛光粉的母体化合物(即各种稀士盐化合物)及其沉淀加工工艺。因为它们决定了产品的粒度特性和晶体特性，如氢氧化、碳酸和草酸，它们的煅烧产品在粒度和抛光性能上有很大的差异。